影響鈰基拋光材料光學(xué)拋光的因素
來源:
www.adiri-baby.com | 發(fā)布時間:2022年08月08日
影響鈰基拋光材料光學(xué)拋光的因素
在鈰基拋光材料光學(xué)拋光處理中,選擇合理的運(yùn)動模式和拋光路徑是重要的一步,拋光運(yùn)動主要是實(shí)現(xiàn)磨削運(yùn)動,因此運(yùn)動狀態(tài)將直接影響拋光過程的精度和生產(chǎn)效率,因此,在平面拋光機(jī)拋光過程中,鈰基拋光材料拋光運(yùn)動應(yīng)滿足以下幾點(diǎn):
1.加工工件時,整個拋光運(yùn)動要從頭到尾平穩(wěn)。
2.拋光運(yùn)動的目的是保障工件能夠均勻地接觸到拋光輪的整個表面。
3.所選的拋光運(yùn)動應(yīng)使軌跡有規(guī)律地改變方向,盡早避免重復(fù)。
4.在拋光運(yùn)動過程中,拋光運(yùn)動還應(yīng)根據(jù)不同的拋光工藝需要選擇理想的運(yùn)動拋光速度。
5.在拋光運(yùn)動過程中,磨具和工件應(yīng)處于懸浮狀態(tài),而不是受限制。
6.拋光運(yùn)動應(yīng)保障工件拋光均勻,即工件表面各點(diǎn)之間的距離應(yīng)盡可能相等。
*免責(zé)聲明:轉(zhuǎn)載內(nèi)容均來自于網(wǎng)絡(luò),如有異議請及時聯(lián)系,本人將予以刪除。